Aukšto grynumo metalų kelių lankų taikiniai

Metaliniai ir lydiniai kelių lankų apvalūs taikiniai

1. Grynumas: 2N8,3N,3N5.4N,4N5,5N

2.Technika ir paviršius: kaltas, šlifuotas, blizgus ryškus paviršius, HIP

3. Forma / forma: apskritas / plokščias / vamzdinis / apvalus / plokštė / vamzdis, pagal užsakymą pagamintas pagal brėžinį

4. Dydis:

Apvalaus skersmuo: 60-1000 mm, storis: 10-1500 mm

Plokštės storis (15–30) * plotis (50–1500) * ilgis (100–2000) mm

Vamzdžio OD: 20-300 mm, storis: 5-60 mm, ilgis: 50-2000 mm

Kita susijusi

Plokščias / apvalus didelio grynumo nuo 99,99% iki 99,995 metalo tikslinė medžiaga Chromo Cr purškimo tikslas

Metalas: Ti, Ni, Cu, Co, Cr, Al, Fe, V, Zn, Sn, W, Mo, Ta, Nb, Zr, Hf, Ge, Bi, Sb, Mg, Mn ir kt.

Metalų lydinių taikiniai: Mo, Zr, Ta, Nb, NbZr, Ni, Si, Sn, NiGr (8:2), NiGr (95:5), NiV, NiCu, NiCr, NiFe, TiAl, AlCr, SiAl, CoFe, CoCr, VFe, TiCr, TiV, NiTi, NbTi, WTi, WCu, SiGe, CoTaZr, CuNiMn ir kt. specialūs lydiniai gali būti pritaikyti pagal užsakymą.

Retųjų žemių taikiniai: Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Nd, Sm, Er, Tm, Yb ir kt. Kiti lydiniai gali būti pritaikyti.

Didelio grynumo metalas: Ni, Ti, Al, V, Co, Cu, Ta, Nb, W, Mo, Cr, Ag, Au ir kt.

Metalinis tiglis: W, Mo, Ta, Nb, Cu ir kt
Metalinis kūgis: Ni, Ti, Co, Cr, Ta, Nb, W, Mo ir kt.

Taikymas

Taikinys reiškia purškimo šaltinį, kuris tinkamomis proceso sąlygomis gali išpurkšti įvairias funkcines plonas plėveles ant pagrindo (stiklo, PET ir kt.), naudojant magnetroninį purškimą, kelių lankų jonų dengimą ar kitą dengimo sistemą.

Magnetrono purškimo sistema už neigiamo taikinio uždeda galingą Gauso magnetą, o vakuuminė kamera užpildoma tam tikru inertinių dujų (Ar) kiekiu kaip iškrovos nešikliu. Veikiant aukštam slėgiui, Ar atomai jonizuojasi į Ar+ jonus ir elektronus, todėl susidaro plazmos švytėjimo išlydis. Skrydžiui įsibėgėjant prie pagrindo, elektronus veikia statmenas elektriniam laukui magnetinis laukas, kuris nukreipia elektronus ir yra surištas su paviršiumi šalia taikinio. Plazmos srityje elektronai spiraliniu būdu juda išilgai taikinio paviršiaus, o judėjimo metu nuolat susiduria su Ar atomais, jonizuodami didelį Ar+ jonų kiekį. Po daugybinių susidūrimų elektronų energija palaipsniui mažėja, atsikrato magnetinių jėgos linijų ir galiausiai patenka ant substrato, vakuuminės kameros vidinės sienelės ir tikslinio šaltinio.

Populiarus Žymos: